真空蒸着は高真空中で金属や酸化物を加熱蒸発させて基盤表面にデポジションさせる加工技術です。この技術は日本においても以前から実用化されていましたが、近年21世紀のキーテクノロジーとして新たに薄膜作成技術として注目をあびております。

このような状況の中で当社は約20年前から新しい蒸着加工技術の開発を始め、現在では東大阪工場にクリーンルームを設け各種の大型真空蒸着装置を導入して各種の蒸着膜の受託加工を行っております。また、国立の研究所や大学等との共同開発も積極的に展開しており、次世代のハイレベルな蒸着技術の開発も進めております。

電子ビーム蒸着加工

電子ビーム蒸着加工の最も代表的な例がオプティカルコーティングです。誘電体多層膜加工品はオプトエレクトロニクス機器の中核部品としてCCDデバイス、液晶表示デバイス、レーザー機器、光通信部品、センサー部品等に利用されております。

抵抗加熱式蒸着加工

抵抗加熱式の真空蒸着は最も一般的な真空蒸着技術ですが、成膜のスピードが比較的早く、また金属膜作成に最も適した蒸着方式です。代表的な蒸着金属はアルミニウムで、ガラス基板やプラスチック成型品の表面にデポジションを行い更にその上に電子ビーム蒸着にてSiO2やTiO2等の酸化膜をコートしてリフレクター等の高反射ミラーとして利用されています。

アーク蒸着加工

アークプラズマガンの先端から金属を蒸着させて基板にコーティングする技術です。高真空中で蒸着することができることや、蒸着原料を溶融させないので基板が加熱されない特徴があります。

また、高融点金属の蒸着ができ、デジタル制御でオングストローム単位の膜圧制御が可能なため、超薄膜の連続多層膜加工ができます。2元素、3元素等の合金膜も蒸着可能です。光学部品や次世代カーナビ用の表示装置用薄膜への応用展開が期待されます。

イオンアシスト電子ビーム蒸着加工

通常の電子ビーム蒸着の成膜中に新しいイオン工学的技法を施して膜の質を一段と向上させることができます。膜の密度を高め耐環境性の向上や長期使用にも耐える高信頼性の膜ができます。

特に優れた膜特性が要求される特殊な光通信部品、ノンシフトタイプの液晶プロジェクター用フィルター、センサー部品、自動車用光学部品等に利用されております。