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薄膜加工 光学薄膜

ノンシフトタイプ誘電体多層膜

これまで改善が困難であった、蒸着直後からの50％半値波長のシフト（移動）を 独自手法により飛躍的に低減いたしました。

特長

  • 成膜後350℃6時間加熱または煮沸6時間後の波長シフト量0.5nm以下。
  • 無加熱低温蒸着によるノンシフト膜の作成も可能。密着性良好。
  • 液晶プロジェクター、センサー、デジカメ等、全薄膜製品について応用可能。
  • 波長シフト量が少ない為、短納期対応可能。

用途

リアプロジェクション　TV　用光学部品全般

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ノンシフト特性

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